










工业级硅化铜主要用于铜基芯片钝化、有机硅工业、催化剂及锂离子电池集流体材料等领域。
硅化铜薄膜可作为扩散阻挡层,抑制铜基芯片的电子迁移和杂质扩散,提升芯片性能和稳定性。
在工业中,硅化铜可催化氯代甲烷的硅化反应,例如制备二甲基二氯硅烷等有机硅化合物。
其纳米泡沫结构可作为集流体材料,促进硅纳米线生长,优化电池性能。
涉及硅酸盐电子工业、电真空器件、集成电路领域等。
| 成立日期 | 2018年04月19日 | ||
| 法定代表人 | 田智鹏 | ||
| 注册资本 | 1000 | ||
| 主营产品 | 次氯酸钙、福美钠、五氧化二钒、氨基磺酸、蛋白胨、双氧水 | ||
| 经营范围 | 许可项目:危险化学品经营;第一类非药品类易制毒化学品经营;互联网信息服务(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动,具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准)一般项目:化工产品销售(不含许可类化工产品);食品添加剂销售;再生资源回收(除生产性废旧金属);新能源汽车废旧动力蓄电池回收及梯次利用(不含危险废物经营);生产性废旧金属回收;再生资源销售;肥料销售;专用化学产品销售(不含危险化学品);实验分析仪器销售;仪器仪表销售;日用化学产品销售;电子专用材料销售;货物进出口;技术进出口;进出口代理(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动) | ||
| 公司简介 | 武汉吉业升化工有限公司成立于2018年04月19日,注册地位于武汉市黄陂区盘龙城经济开发区叶店村武汉28街休闲商业中心D1栋1-2层15室,法定代表人为田智鹏。经营范围包括许可项目:危险化学品经营;第一类非药品类易制毒化学品经营;互联网信息服务(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动,具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准)一般项目:化工产品销售(不含许可类化工产品);食品添加 ... | ||





