100级垂直层流无尘室断面风速不小于0.25m/s，水平层流洁净车间断面风速不小于0.35m/s，百级洁净棚厂家，乱流洁净工作室一般按换气次数估算： 100，000级14.4—19.2次/小时，(规范：15次/小时)。
10，000级 23.8—28.6次/小时，(规范：25次/小时)。
1，000级 43.5—55.3次/小时，(规范：50次/小时)。
万级换气次数≥25次/小时(一般取27-28)，十万级换气次数≥15次/小时(一般17-18)。
要注意把握洁净棚的换气时间和规律，严格把控，促进对污染的有效控制。
因此洁净棚根据材质分类为以下几种类型：
? 铝型材洁净棚
? 不锈钢洁净棚
? 铁方通洁净棚
? 硬墙洁净工作棚
? 软帘洁净工作棚
? 网格垂帘洁净棚
净化棚价格和洁净棚材料有很大的关系： 洁净棚的框架一般有三种：不锈钢方通，铁方通，铝型材。洁净棚顶部材料一般有三种：不锈钢板，冷轧钢板喷塑，防静电网格围帘，(防静电)亚克力板。洁净送风部分，一般选择FFU层流罩(FFU层流送风单元) 洁净棚的围护材料一般包括：防静电围帘，(防静电)亚克力板。
洁净棚的温湿度控制非常重要，不合宜的温湿度会影响洁净效果。但是温湿度的控制主要还是根据工艺要求来确定的，工艺性高也就代表着洁净度越高。
湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，荆州洁净棚厂家，温度上升1度，无尘洁净棚厂家，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
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