打标速度，这里指激光的移动速度。这个速度是指在参数中可调节的那个速度，而不是指打标一个产品的整体速度。因为整体的打标速度不仅受速度参数的调节，还
受到打标深度，打标面积等的因素影响。打标速度这个参数的作用就是在其他条件恒定的情况下，速度越快，打标速度就越快。速度快，同一个地方受到激光打击的
次数就越少。速度慢，就比较有利于打深度。但是也并不是速度越慢打深度越好。因为打标的时候速度太慢，激光打出来的物质会在材料表面堆积，影响到激光打到
更深。所以如果是打深度的话，要用低速打几遍之后还要用高速扫一遍
激光打标仪的使用：按下Q电源开关。选择“内控”，喷码机，设置好M的模式，调节旋钮至所需的工作调制频率，高解析喷码机，金属和非金属一般可以用M1方式打标，非金属也可以用M2方式打标。一般情况下，为M1方式，Q频率可设置为2.35KHz左右，如需在金属上产生“打黑，无深度”的效果，可设为M1方式，此时调制频率需设置为5-30KHz左右，软件设置的打标速度可以设置为10-50左右，激光电源的工作电流适中为宜。
产品目前已出口至韩国、澳大利亚、印度尼西亚、俄罗斯、1富汗、印度、巴基斯坦、埃及等国家。公司自上个世纪发展至今，秉承“勇立众人之先、勇立创新之、勇立”的企业精神，获得了令世人瞩目的成绩。
激光器由封闭在泵浦腔中的工作介质和泵浦源构成。泵浦源将工作介质从能量基态“泵浦”到激发态。如果在两激发能级间实现“粒子数反转”，则可产生受激辐射，通过在光学谐振腔中谐振（来回反射）得到放大，其中一部分放大了的电磁辐射输出就形成了激光。激光器的工作介质可以是气体、液体或固体。大多数气体激光器的工作介质由原子、分子或两者的混合组成。固体激光器由原子或掺杂在某些晶体中的离子组成。而液体激光器溶解在液体中的大分子量的分子组成。在特定条件下，所有这些工作介质都可以实现“粒子数反转”，并产生某一波长的激光输出。
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